几种常用光学材料的离子束刻蚀特性研究
发布于 2025-01-20 15:46
本文核心词:离子束光刻。 几种常用光学材料的离子束刻蚀特性研究 利用基于射频离子源的离子束刻蚀装置,分别以氩气、三氟甲烷为工作气体,初步研究了离子能量、束流和加速电压等条件对K9、石英、氧化硅薄膜、氧化铪薄膜这4种常用光学材料和光刻胶的离子束刻蚀特性和反应离子束刻蚀特性的影响.实...
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本文核心词:离子束光刻。 几种常用光学材料的离子束刻蚀特性研究 利用基于射频离子源的离子束刻蚀装置,分别以氩气、三氟甲烷为工作气体,初步研究了离子能量、束流和加速电压等条件对K9、石英、氧化硅薄膜、氧化铪薄膜这4种常用光学材料和光刻胶的离子束刻蚀特性和反应离子束刻蚀特性的影响.实...
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